[发明专利]量测设备和用于测量结构的方法和光刻系统有效
| 申请号： | 201780051622.9 | 申请日： | 2017-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN109643068B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | N·潘迪 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;G01N21/95 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了量测设备和方法。在一个设置中，量测设备包括使用测量辐射照射结构并且检测由结构散射的测量辐射的光学系统。光学系统包括将被散射的测量辐射聚焦至传感器上的透镜的阵列。色散元件将在多个非重叠波长频带的每一个中的经散射的测量辐射独占地引导至透镜的阵列的不同的相应透镜上。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 用于 测量 结构 方法 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量由光刻工艺在衬底上形成的结构的量测设备，所述量测设备包括：光学系统，被配置为使用测量辐射照射所述结构并且检测由所述结构散射的所述测量辐射，所述光学系统包括：透镜的阵列，所述透镜的阵列被配置为将经散射的所述测量辐射聚焦至传感器上；以及色散元件，被配置为将多个非重叠波长频带中的每个波长频带中的经散射的测量辐射独占地引导至所述透镜的阵列中的不同的相应透镜上。
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