[发明专利]密封组合物在审
| 申请号： | 201780049426.8 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN109563628A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | E·L·莫里斯;G·L·珀斯特;M·A·玛尤;B·C·奥克伯格;M·L·C·利姆 | 申请（专利权）人： | PRC-迪索托国际公司 |
| 主分类号： | C23C22/83 | 分类号： | C23C22/83;C23C22/34;C23C22/56;C23C22/66 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 姜煌 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开的是一种处理基材的方法。该表面与包含锂阳离子的密封组合物接触；和任选地与包含镧系元素、第IIIB族和/或第IVB族金属的阳离子的转化组合物接触。施涂该转化组合物来在基材表面上提供膜，这导致其上的镧系元素、第IIIB族金属和/或第IV族金属的水平比其上不具有所述膜的基材表面大了至少100个数，其是通过X射线荧光测量的(使用X‑Met7500，Oxford Instruments测量；对于镧系元素、第IIIB族金属和第IVB族金属(除了锆)，运行参数60秒逐时分析，15Kv，45μA，滤波器3，T(p)＝1.5μs；对于锆，运行参数60秒逐时分析，40Kv，10μA，滤波器4，T(p)＝1.5μs)。还公开了通过该方法可以获得的基材。 | ||
| 搜索关键词： | 镧系元素 滤波器 密封组合物 基材表面 运行参数 第IVB族 金属 第IV族金属 处理基材 锂阳离子 阳离子 基材 施涂 转化 测量 分析 | ||
【主权项】：
1.一种处理基材的方法，其包括：将该基材表面的至少一部分与包含锂阳离子的密封组合物接触；其中施涂该密封组合物来提供厚度是5nm‑550nm的干燥的密封组合物的层。
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- 本发明涉及一种制备防腐蚀保护覆盖层的方法，其中，使将被处理的表面与含铬(III)离子和至少一种磷酸盐化合物的含水处理溶液接触，其中铬(III)离子的摩尔浓度与该至少一种磷酸盐化合物(按正磷酸盐计算)的摩尔浓度之间的比值处于1∶1.5到1∶3之间。该方法可以改善具有转化层的金属、特别是含锌金属表面的腐蚀保护性能。表面的装饰性和功能性得到保持或改善。此外，已知的由使用含铬(VI)化合物或用聚合物分散进行后处理所引起的问题也得以避免。
- 平版印刷板基材的制造方法和可成像元件-200880018812.1
- Y·米亚莫托 - 伊斯曼柯达公司
- 2008-05-30 - 2010-03-24 - C23C22/83
- 通过谨慎地控制中间层聚合物中的膦酸基浓度和后处理溶液中的铝(+3)浓度用中间层涂覆具有阳极氧化物层的含铝基材。这些基材当用作平版印刷板的部件时具有改进的亲水性、平版印刷油墨排斥性和总体改进的可印刷性。
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
