[实用新型]一种溅射工艺设备

摘要

本实用新型提供一种溅射工艺设备，包括：静电吸盘、沉积环以及防护圈；沉积环包围静电吸盘侧边的至少一部分，且与静电吸盘侧边之间具有间隙，沉积环靠近静电吸盘侧边的一侧上表面低于静电吸盘上表面；沉积环上表面还具有凸起部，凸起部的最高点高于静电吸盘上表面；防护圈设置于静电吸盘与沉积环之间，并包围沉积环靠近静电吸盘侧边的一侧上表面边缘及侧面上边缘；从而，无需对所述静电吸盘进行打磨，一方面，不会对所述静电吸盘造成污染以及降低其静电吸附能力，提高产品质量；另一方面，降低所述静电吸盘报废的风险，减少资源浪费；再次，更换所述防护圈简单、方便，较之打磨所述静电吸盘耗时短，提高了生产效率。

主权项

1.一种溅射工艺设备，其特征在于，包括：静电吸盘；沉积环，包围所述静电吸盘侧边的至少一部分，且与所述静电吸盘侧边之间具有间隙，所述沉积环靠近所述静电吸盘侧边的一侧上表面低于所述静电吸盘上表面；所述沉积环上表面还具有凸起部，所述凸起部的最高点高于所述静电吸盘上表面；防护圈，设置于所述静电吸盘与所述沉积环之间，并包围所述沉积环靠近所述静电吸盘侧边的一侧上表面边缘及侧面上边缘。