[实用新型]一种光刻机专用基片定位装置有效

专利信息
申请号: 201720919522.0 申请日: 2017-07-27
公开(公告)号: CN207037328U 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 张华丽;陈科;冒卫星;黄明宇 申请(专利权)人: 南通大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 代理人: 顾森燕
地址: 226000*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型揭示了一种光刻机专用基片定位装置,包括基座,支撑杆,光源定位杆及基片定位杆,其中基座通过螺栓固定在底座上,而支撑杆固定在基座上表面,所述光源定位杆固定在支撑杆顶端,其自由端具有半圆环卡在光刻机的光源上,所述基片定位杆固定在基座侧面,其自由端具有基片定位环,且基片定位杆与光源定位杆平行,同时基片定位环圆心与半圆环圆心及光源中心在同一垂直线上。
搜索关键词: 一种 光刻 专用 定位 装置
【主权项】:
一种光刻机专用基片定位装置,包括光刻机以及安装在光刻机底座上的定位装置,其特征在于:所述定位装置包括基座,支撑杆,光源定位杆及基片定位杆,其中:基座通过螺栓固定在底座上,而支撑杆固定在基座上表面,所述光源定位杆固定在支撑杆顶端,其自由端具有半圆环卡在光刻机的光源上,所述基片定位杆固定在基座侧面,其自由端具有基片定位环,且基片定位杆与光源定位杆平行,同时基片定位环圆心与半圆环圆心及光源中心在同一垂直线上。
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