[发明专利]补偿光罩的形变量的方法及装置、曝光机在审
| 申请号： | 201711469985.2 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN107976872A | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 桂宇畅 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,武岑飞 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种补偿光罩的形变量的方法，其包括步骤一获取光罩在温度变化量下的光罩形变量；步骤二建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型；步骤三将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中，从而所述曝光机在实时监控所述光罩的温度时通过补入到所述参数模型中的所述关系模型预测并补偿所述光罩的形变量。本发明在曝光机的工作过程中无须对光罩的尺寸(scaling)进行实时计测，从而缩短生产产品的节拍时间，进而提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 补偿 形变 方法 装置 曝光 | ||
【主权项】：
一种补偿光罩的形变量的方法，其特征在于，包括：步骤一：获取光罩在温度变化量下的光罩形变量；步骤二：建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型；步骤三：将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中，从而所述曝光机在实时监控所述光罩的温度时通过补入到所述参数模型中的所述关系模型预测并补偿所述光罩的形变量。
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