[发明专利]补偿光罩的形变量的方法及装置、曝光机

说明书

技术领域

本发明属于半导体设备技术领域，具体地讲，涉及一种补偿光罩的形变量的方法及装置、曝光机。

背景技术

随着光电与半导体技术的演进，也带动了平板显示器(Flat Panel Display)的蓬勃发展，而在诸多平板显示器中，液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)因具有高空间利用效率、低消耗功率、无辐射以及低电磁干扰等诸多优越特性，已成为市场的主流。

目前，随着液晶显示器行业的迅速发展，对液晶显示器的屏幕分辨率的要求也越来越高，带来的是对制作液晶显示器(主要是针对液晶面板的制作)时使用的曝光机的对位精度(OVL)提出了更高的要求。在目前的技术中，主要通过曝光机的透镜(Lens)校准以及对光罩的形变量进行补偿来提高对位精度，但因光罩的形变量较大，导致在生产(run)产品过程中需频繁对光罩(mask)进行尺寸(scaling)计测，从而导致生产产品的节拍时间(tact time)较长，不利于提高生产效率。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种能够提高曝光机生产效率的补偿光罩的形变量的方法及装置、曝光机。

根据本发明的一方面，提供了一种补偿光罩的形变量的方法，其包括：步骤一：获取光罩在温度变化量下的光罩形变量；步骤二：建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型；步骤三：将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中，从而所述曝光机在实时监控所述光罩的温度时通过补入到所述参数模型中的所述关系模型预测并补偿所述光罩的形变量。

进一步地，所述光罩形变量包括所述光罩在X方向上形变的X方向光罩形变量以及所述光罩在Y方向上形变的Y方向光罩形变量，所述X方向和所述Y方向垂直。

进一步地，在步骤一中，获取光罩在温度变化量下的光罩形变量的方法包括：获取在第一温度值下所述光罩在所述X方向上的第一X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第一Y方向形变量；获取在第二温度值下所述光罩在所述X方向上的第二X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第二Y方向形变量；利用所述第二温度值与所述第一温度值的差值的绝对值作为所述温度变化量，且利用所述第二X方向形变量与所述第一X方向形变量的绝对值作为所述X方向光罩形变量，且利用所述第二Y方向形变量与所述第一Y方向形变量的绝对值作为所述Y方向光罩形变量。

进一步地，在步骤二中，建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型的方法包括：利用所述X方向光罩形变量和所述温度变化量拟合第一线性关系模型，并判断所述第一线性关系模型的拟合优度是否大于或等于预定拟合优度；利用所述Y方向光罩形变量和所述温度变化量拟合第二线性关系模型，并判断所述第二线性关系模型的拟合优度是否大于或等于预定拟合优度；其中，如果是，则进行步骤三；如果否，则返回步骤一。

进一步地，所述预定拟合优度为0.8。

根据本发明的另一方面，还提供了一种补偿光罩的形变量的装置，其包括：光罩形变量获取模块，被配置为获取光罩在温度变化量下的光罩形变量；关系模型建立模块，被配置为建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型；关系模型补入模块，被配置为将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中；其中，所述曝光机在实时监控所述光罩的温度时通过补入到所述参数模型中的所述关系模型预测并补偿所述光罩的形变量。

进一步地，所述光罩形变量获取模块包括：第一获取单元，被配置为获取在第一温度值下所述光罩在所述X方向上的第一X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第一Y方向形变量；第二获取单元，被配置为获取在第二温度值下所述光罩在所述X方向上的第二X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第二Y方向形变量；确定单元，被配置为将所述第二温度值与所述第一温度值的差值的绝对值确定为所述温度变化量，且将所述第二X方向形变量与所述第一X方向形变量的绝对值确定为所述X方向光罩形变量，且将所述第二Y方向形变量与所述第一Y方向形变量的绝对值确定为所述Y方向光罩形变量。