[发明专利]基板处理装置、基板处理方法和基板处理系统

摘要

本发明提供一种在更短时间内将基板和紫外线照射器之间的空间的环境气体变为规定的环境气体的基板处理装置。基板处理装置(10)具备基板保持台(1)、紫外线照射机构(2)、筒构件(3)和气体供给机构(41、42)。紫外线照射机构以隔着作用空间(H1)与基板(W1)相对的方式配置，并向基板照射紫外线。筒构件具有包围基板保持台的侧表面1b)的内表面(3a)，在内表面中的与侧表面相对的至少一个位置上具有至少一个开口部(31a)。气体供给机构(42)经由至少一个开口部，向基板保持台(1)的侧表面(1b)和筒构件(3)的内表面(3a)之间的空间供给气体。气体供给机构(41)向基板和紫外线照射机构(2)之间的作用空间(H1)供给气体。

主权项

1.一种基板处理装置，其中，具备：基板保持台，具有载置基板的第一上表面和侧表面；紫外线照射机构，以隔着作用空间与基板相对的方式配置，并向基板照射紫外线；筒构件，具有包围所述基板保持台的所述侧表面的内表面，在所述内表面中的与所述基板保持台的所述侧表面相对的至少一个位置上具有至少一个侧方开口部；第一气体供给机构，经由至少一个所述侧方开口部，向所述基板保持台的所述侧表面和所述筒构件的所述内表面之间的空间供给气体；以及第二气体供给机构，向所述基板和所述紫外线照射机构之间的所述作用空间供给气体。