[发明专利]一种大面积超分辨光刻装置

摘要

本发明公开了一种大面积超分辨光刻装置，属于超分辨光刻设备的技术领域。该装置包括隔振地基、主动隔振平台、主基板、紫外曝光光源、间隙检测系统、对准模块、超分辨光刻镜头模块、工件台模块、激光干涉测量系统、超精密环控系统和控制系统。该设备通过干涉技术，实现了纳米量级精度的在线间隙检测；通过精密调平和间隙控制技术，实现了几十纳米量级间隙光刻功能；通过承片台局部气控技术，实现了大面积超分辨步进光刻功能。

主权项

1.一种大面积超分辨光刻装置，其特征在于：包括隔振地基(1)、主动隔振平台(2)、主基板(3)、紫外曝光光源(4)、间隙检测系统(5)、对准模块(6)、超分辨光刻镜头模块(7)、工件台模块(8)、六轴激光干涉测量系统(9)、超精密环控系统(10)和控制系统(11)；紫外曝光光源(4)、间隙检测系统(5)、对准模块(6)、超分辨光刻镜头模块(7)和六轴激光干涉测量系统(9)都安装在主基板(3)上，主基板(3)安装在主动隔振平台(2)上，主动隔振平台(2)安装在隔振地基(1)上，整个设备安装在超精密环控系统(10)内，控制系统(11)安装在超精密环控系统(10)外面的隔振地基(1)上；紫外曝光光源(4)为整个超分辨光刻装置提供365±5nm的紫外曝光光束；间隙检测系统(5)共包含三套相同的检测模块，检测模块包括光谱仪(12)、光谱仪光源(13)、光纤(14)、探头(15)，检测模块通过探头安装板(16)安装在超分辨光刻镜头模块(7)上；对准模块(6)共包括两套，左右对称安装在主基板(3)上，对准模块(6)包括调节平台(17)、CCD(18)、远心镜头(19)、LED光源(20)和折转棱镜(21)，其中CCD(18)安装在调节平台(17)上，远心镜头(19)与CCD(18)连接，LED光源(20)、折转棱镜(21)安装在远心镜头(19)上；超分辨光刻镜头模块(7)包括滑轨安装板(22)、滑轨(23)、镜头安装板(24)、超分辨光刻镜头(25)、弹簧顶销(26)、拉手(27)和锁紧螺钉(28)，其中滑轨安装板(22)安装在主基板(3)的底部，两根滑轨(23)安装在滑轨安装板(22)上，一定数量的弹簧顶销(26)安装在滑轨(23)上，镜头安装板(24)安装在滑轨安装板(22)与滑轨(23)的滑槽中，超分辨光刻镜头(25)和拉手(27)安装在镜头安装板(24)上，同时拉手(27)通过锁紧螺钉(28)固定在滑轨安装板(22)上；工件台模块(8)，包括六轴精密位移台(29)、六轴纳米位移台(30)、气路板(31)、承片台(32)、定制密封圈(33)、密封圈压环(34)和基片(35)，六轴精密位移台(29)安装在主动隔振平台(2)上，六轴纳米位移台(30)安装在六轴精密位移台(29)上，气路板(31)安装在六轴纳米位移台(30)上，承片台(32)安装在气路板(31)上，定制密封圈(33)通过密封圈压环(34)安装在承片台(32)上，基片(35)吸附在承片台(32)上；承片台(32)分区域加工有密孔，气路板(31)布置有密集气道，气路板(31)气道与承片台(32)密孔一一对应。