[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

摘要

本发明提供抑制基板处理装置大型化，并且降低处理液中的去除对象气体的溶解浓度的技术。基板处理装置(100)具备多个基板处理部(20)和处理液系统(30)。基板处理部具备保持基板(W)的基板保持部(21)和向基板保持部保持的基板喷出处理液的喷出喷嘴(23)。处理液系统具备在内部贮存处理液的贮存槽(31)、与贮存槽连接并形成有使向喷出喷嘴供给的处理液通过的供给通路的供给配管部(320)、与贮存槽连接并形成有使通过了供给配管部的处理液返回贮存槽的返回通路(322P)的返回配管部(322)、向返回配管部的返回通路内供给与溶解于处理液中的氧气不同的氮气的气体供给部(60)。

主权项

1.一种基板处理装置，用于向基板供给处理液来对所述基板进行处理，其具备：基板保持部，保持基板；喷出喷嘴，向所述基板保持部保持的所述基板喷出所述处理液；贮存槽，在内部贮存所述处理液；供给配管部，与所述贮存槽连接，形成使向所述喷出喷嘴供给的所述处理液通过的供给通路；返回配管部，与所述贮存槽连接，形成使通过了所述供给配管部的所述处理液返回所述贮存槽的返回通路；以及气体供给部，向所述返回配管部的所述返回通路内供给与在所述处理液中溶解的去除对象气体不同的添加气体。