[发明专利]一种OLED器件结构及制备方法有效
申请号: | 201711108575.5 | 申请日: | 2017-11-11 |
公开(公告)号: | CN107863446B | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 周雄图;翁雅恋;张永爱;郭太良;李福山;杨尊先;叶芸 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊;陈章霖 |
地址: | 350108 福建省福州市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种OLED器件结构及制备方法,该OLED器件结构包括一基板;一第一水氧阻隔层,设置于基板上方,由具有高低折射率的两种薄膜的堆叠,一方面用于增加OLED发射光的出光效率,另一方面作为封装层,用于阻隔水汽和氧气;一OLED单元,设于第一水氧阻隔层上方;一第二水氧阻隔层,设于OLED单元上方,由具有高低折射率的两种薄膜的堆叠,一方面用于反射OLED光,另一方面作为封装层,用于阻隔水汽和氧气。与现有技术相比,本发明虽然结构复杂,但操作简单、材料易购买、效果显著,能有效提高OLED器件的寿命和光提取效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 oled 器件 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种OLED器件结构,其特征在于,包括由下至上依次设置的基板、第一水氧阻隔层、OLED单元和第二水氧阻隔层;所述第一水氧阻隔层通过第一低折射率薄膜和第一高折射率薄膜由下至上依次按交替周期数m+0.5交替形成,m取值为正整数,0.5表示第一水氧阻隔层的最顶层为第一低折射率薄膜,所述第一低折射率薄膜的折射率小于第一高折射率薄膜的折射率;所述第二水氧阻隔层通过第二高折射率薄膜和第二低折射率薄膜由下至上依次按交替周期数n+0.5交替形成,n取值为正整数,0.5表示第二水氧阻隔层的最顶层为第二高折射率薄膜,所述第二低折射率薄膜的折射率小于第二高折射率薄膜的折射率;所述OLED单元包括由下至上依次设置的阳极、空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和阴极;所述第二水氧阻隔层和阳极的截面均呈L字形,第二水氧阻隔层的短边位于电子注入层之上,第二水氧阻隔层的长边竖直向下且第一水氧阻隔层的长边内壁紧贴空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和阴极的竖直端面,所述阳极的长边位于空穴注入层之下,阳极的短边竖直向上并紧贴第一水氧阻隔层的长边端部外壁;所述OLED器件结构的制备方法,包括如下步骤:S1:准备基板,将基板洗净、烘干,然后进行等离子处理或UV处理;S2:采用原子层沉积或电子束蒸镀法制备第一水氧阻隔层;S3:在第一水氧阻隔层上制备OLED单元;S4:采用原子层沉积或电子束蒸镀法制备第二水氧阻隔层;其中,在制备第一水氧阻隔层之前,首先确定第一低折射率薄膜和第一高折射率薄膜的材料组合,再根据OLED单元的发光波长,采用薄膜仿真软件对第一低折射率薄膜和第一高折射率薄膜的堆叠厚度和交替周期数进行仿真,使第一水氧阻隔层达到最大的透光率;在制备第二水氧阻隔层之前,首先确定第二高折射率薄膜和第二低折射率薄膜的材料组合,再根据OLED单元的发光波长,采用薄膜仿真软件对第二高折射率薄膜和第二低折射率薄膜的堆叠厚度和交替周期数进行仿真,使第二水氧阻隔层达到最大的反射率。
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