[发明专利]利用窄间距电容耦合电极的亚大气压力等离子体增强ALD方法有效

专利信息
申请号: 201711057929.8 申请日: 2017-11-01
公开(公告)号: CN108018539B 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 笃毅深泽;财津优;德永正树;福田秀明 申请(专利权)人: ASMIP控股有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52;C23C16/513
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 江磊;沙永生
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种利用等离子体增强亚大气压力原子层沉积(亚大气压力PEALD)来沉积膜的方法,所述方法使用间距为1mm~5mm的电容耦合平行板电极来进行,其中,亚大气压力PEALD的一个循环包括:以脉冲方式向反应腔室供给前体;向反应腔室持续供给反应物;向反应腔室持续供给惰性气体;将反应腔室的压力持续控制在15kPa~80kPa的范围内;以及以脉冲方式向平行板电极中的一个施加用于辉光放电的RF功率。
搜索关键词: 利用 间距 电容 耦合 电极 大气压力 等离子体 增强 ald 方法
【主权项】:
1.一种利用等离子体增强亚大气压力原子层沉积来沉积膜的方法,所述方法包括:将基材置于可排空反应腔室中的电容耦合平行板电极之间,其中,所述平行板电极之间的距离在1mm~5mm的范围内;以及利用等离子体增强原子层沉积(PEALD)在所述基材上沉积具有所需厚度的膜,其中的每一个循环包括:(i)以脉冲方式向所述反应腔室供给前体;(ii)向所述反应腔室持续供给反应物;(iii)向所述反应腔室持续供给惰性气体;(iv)将所述反应腔室的压力持续控制在15kPa~80kPa的范围内;以及(v)以脉冲方式向所述平行板电极中的一个施加用于辉光放电的RF功率,其中,供给所述前体的脉冲与施加RF功率的脉冲不重叠。
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