[发明专利]一种完善光刻模型数据对测试图形覆盖范围的方法

摘要

本发明提出一种完善光刻模型数据对测试图形覆盖范围的方法，在标准图形参数空间的基础上，将测试图形的具体结构参数添加进标准图形参数空间中，通过对其中空白空间的分析，给出模型数据中所缺少的具体测试图形结构，从而通过补充缺少的模型数据，使得光刻模型对测试图形具有更广的覆盖范围。这一新方法，能够确保光刻模型对测试图形具有足够的覆盖范围，使其能够对曝光过程实现更精准的预测。本发明在校准光刻模型的过程中，提出了一种同时利用标准图像变量和测试图形结构参数，完善光刻模型对测试图形覆盖范围的方法，从而有利于提高光刻模型对曝光过程的预测准确性和对图形的覆盖性。

主权项

一种完善光刻模型数据对测试图形覆盖范围的方法，其特征在于，包括下列步骤：步骤1：在线宽均匀的晶圆上量测并收集第一批具有多种不同类型的测试图形数据，并根据设计规则对量测结果进行筛选处理；步骤2：在筛选处理后的量测数据基础上，利用软件开始对光刻模型进行初步的校准，从而得到整体光刻模型数据在图形参数空间空间中的范围；步骤3：根据测试图形类型对图形参数空间空间分布进行分类，提取该结构在图形参数空间中的分布范围，获取图形参数结构数据在图形参数空间中所缺少的部分；步骤4：在结构数据中，将测试图形的具体结构参数添加到图形参数空间中，具体结构参数与标准图像变量一一对应，通过图形参数空间的空白部分得到与之相对应的具体结构参数，从而预测模型数据中所缺少的具体测试图形结构；步骤5：在相同线宽均匀的晶圆上量测并收集测试图形的数据，在通过设计规则的筛选后将第二批量测数据补充到第一批的量测数据之中，从而得到新的模型数据，完善光刻模型数据度对测试图形覆盖范围；步骤6：再次重复步骤2到步骤5，进一步完善光刻模型数据对测试图形的覆盖范围。