[发明专利]真空吸附手、基底交接装置及光刻机有效
| 申请号： | 201710944128.7 | 申请日： | 2017-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN109597279B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 郑清泉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空吸附手、基底交接装置及光刻机。所述真空吸附手包括吸附轴、吸头、主体支架、驱动组件及防转结构。所述基底交接装置包括底座和对称分布于所述底座的若干所述真空吸附手。所述光刻机包括基底台，所述基底台设有基底交接区，所述基底台内安装有所述基底交接装置，所述基底交接装置位于所述基底交接区的下方，所述基底交接区表面对应于所述真空吸附手的位置开有通孔；交接基底时，所述真空吸附手可经由所述通孔向上延伸。本发明提供的基底交接装置提高了自身空间利用率，降低了空间尺寸；另外，该基底交接装置采用圆形的气浮导轨，使装置易于制造，容易满足导轨制造精度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 吸附 基底 交接 装置 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种真空吸附手，其特征在于，包括吸附轴、吸头、主体支架、驱动组件及防转结构，所述吸附轴连接所述防转结构，所述驱动组件驱动所述吸附轴和所述防转结构在所述主体支架内沿轴向滑动，所述防转结构限制所述吸附轴相对所述主体支架绕轴向转动，所述吸附轴顶端连接所述吸头，所述吸附轴内设有真空通道，所述吸头与所述真空通道连通。
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