[发明专利]光学透镜系统、曝光装置、曝光方法和元件的制造方法有效
| 申请号： | 201710930306.0 | 申请日： | 2017-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN109634058B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 孙晶露;田毅强 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学透镜系统、曝光装置、曝光方法和元件的制造方法，所述光学透镜系统包括沿着所述光学透镜系统的光轴方向从物区域至像区域依次排布的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组；所述第一透镜组至少具有从物区域至像区域依次排布的一弯月透镜、一凸透镜和一双凹透镜；所述第二透镜组至少具有从物区域至像区域依次排布的一凹透镜和一凸透镜。本发明所提供的光学透镜系统通过所述第一透镜组和所述第二透镜组中透镜的选择和组合，提高了数值孔径，具有更高的分辨率，例如应用于光刻工艺中极限分辨率达到750nm。进而，采用本发明所提供的光学透镜系统的曝光装置、曝光方法以及元件的制造方法均能实现具有更高分辨率的工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 透镜 系统 曝光 装置 方法 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光学透镜系统，包括沿着所述光学透镜系统的光轴方向从物区域至像区域依次排布的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组，其特征在于，所述第一透镜组至少具有从物区域至像区域依次排布的一弯月透镜、一凸透镜和一双凹透镜；所述第二透镜组至少具有从物区域至像区域依次排布的一凹透镜和一凸透镜。
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