[发明专利]光学透镜系统、曝光装置、曝光方法和元件的制造方法有效
申请号: | 201710930306.0 | 申请日: | 2017-10-09 |
公开(公告)号: | CN109634058B | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 孙晶露;田毅强 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 透镜 系统 曝光 装置 方法 元件 制造 | ||
1.一种光学透镜系统,包括沿着所述光学透镜系统的光轴方向从物区域至像区域依次排布的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组,其特征在于,
所述第一透镜组至少具有从物区域至像区域依次排布的一弯月透镜、一凸透镜和一双凹透镜;
所述第二透镜组至少具有从物区域至像区域依次排布的一凹透镜和一凸透镜;
所述光学透镜系统还包括一孔径光阑,位于所述第二透镜组和所述第三透镜组之间;
所述光学透镜系统为双远心结构,且所述第一透镜组和所述第二透镜组分别与所述第四透镜组和所述第三透镜组关于所述孔径光阑对称;
所述孔径光阑为可变光阑,利用所述可变光阑使所述光学透镜系统的数值孔径在0.16~0.24的范围内;
所述第一透镜组(100)和所述第二透镜组(200)的焦距比范围为0.48~0.54。
2.根据权利要求1所述的光学透镜系统,其特征在于,所述可变光阑包括一叶片组合,所述叶片组合用于控制所述可变光阑的光孔直径以所述光轴为圆心连续变化。
3.根据权利要求1所述的光学透镜系统,其特征在于,所述第二透镜组中的所述凹透镜和所述凸透镜采用双分离式结构。
4.根据权利要求1所述的光学透镜系统,其特征在于,所述光学透镜系统的照明光源包括LED光源。
5.根据权利要求4所述的光学透镜系统,其特征在于,所述第一透镜组中的所述双凹透镜的材质的折射率小于1.5且色散常数大于70。
6.根据权利要求5所述的光学透镜系统,其特征在于,所述第一透镜组中的所述双凹透镜的材质为冕牌玻璃。
7.根据权利要求4所述的光学透镜系统,其特征在于,所述第一透镜组中的所述弯月透镜的材质的折射率大于1.6且色散常数大于55。
8.根据权利要求4所述的光学透镜系统,其特征在于,所述第一透镜组中的所述凸透镜的材质的折射率大于1.56且色散常数小于45。
9.根据权利要求8所述的光学透镜系统,其特征在于,所述第一透镜组中的所述凸透镜的材质为火石玻璃。
10.一种曝光装置,包括光源模块、照明模块、掩膜台、光学透镜组件和工作台,所述光源模块通过所述照明模块将光源投射到所述掩膜台上,经过所述掩膜台的光源照射至所述光学透镜组件,以及,经由所述光学透镜组件的光源照射至所述工作台上,其特征在于,所述光学透镜组件包括如权利要求1~9中任意一项所述的光学透镜系统。
11.一种曝光方法,其特征在于,使用如权利要求10所述的曝光装置。
12.一种元件的制造方法,其特征在于,使用如权利要求11所述的曝光方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710930306.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。