[发明专利]微通道及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710796751.2 申请日: 2017-09-06
公开(公告)号: CN107519960B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 陈皓生;冯玉振;李疆;朱迪 申请(专利权)人: 清华大学;北京科技大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00;B33Y10/00;B33Y80/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出了微流道及其制作方法,该制作微通道的方法包括:将平面展开结构进行折叠而获得微通道;其中,微通道的截面是边数为N的正多边形,平面展开结构包括N个截面为等腰梯形的亚结构。本发明所提出的制作微通道的方法,获得的微通道的截面形状可以是三角形、四边形、五边形、六边形等多边形,几何形状更丰富;并且该方法还可在微通道的内壁,即平面展开结构的上表面,进行多次或多种的局部表面修饰或局部表面加工,从而可对微通道内壁的每一个表面进行不同表面图案的设计,然后再将平面展开结构折叠闭合即可形成内壁三维图案化修饰的多边形微通道,进而可实现三维复杂内壁形貌的微通道设计。
搜索关键词: 通道 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种制作微通道的方法,其特征在于,所述微通道是通过将平面展开结构进行折叠而获得的;其中,所述微通道的截面是边数为N的正多边形,所述平面展开结构包括N个截面为等腰梯形的亚结构;并且,所述方法包括:(1)基于所述正多边形的边数N,确定所述平面展开结构的设计参数;(2)基于所述平面展开结构的设计参数,制作相应的模具;(3)用所述模具进行浇注,以便获得所述平面展开结构;(4 )对所述平面展开结构的上表面进行局部表面修饰;(5 )将所述平面展开结构进行折叠,以便获得所述微通道。
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