[发明专利]光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供能够使掩模图案截面形状的垂直化的光掩模坯料及其制造方法。本发明还提供使用其的光掩模的制造方法及显示装置的制造方法。本发明的光掩模坯料具有透明基板(1)、遮光层(2)和减反射层(3)，遮光层(2)由含有铬和氮的铬化合物形成，减反射层(3)由含有铬、氮和氧的铬化合物形成，减反射层(3)中含有的铬的含量少于遮光层(2)中含有的铬的含量，减反射层(3)是叠层了多层的叠层膜，减反射层(3)的表面侧的上层部(32)所含有的氧含量多于减反射层(3)的遮光层侧的下层部(31)所含有的氧含量，在上层部(32)的表面侧具有实质上不含碳的区域，在该区域，氧朝向最表面连续地增加，且氧相对于氮的比例(O/N)的最大值为5以上。

主权项

一种光掩模坯料，其具有由对曝光光实质上透明的材料制成的透明基板、所述透明基板上的遮光层、以及所述遮光层上的减反射层，其中，所述遮光层由含有铬和氮的铬化合物形成，所述减反射层由含有铬、氮和氧的铬化合物形成，所述减反射层中含有的铬的含量少于所述遮光层中含有的铬的含量，所述减反射层是叠层多层而成的叠层膜，所述减反射层的表面侧的上层部所含有的氧含量多于所述减反射层的遮光层侧的下层部所含有的氧含量，在所述上层部的表面侧具有实质上不含碳的区域，在该区域，氧朝向最表面连续地增加，且氧相对于氮的比例O/N的最大值为5以上。