[发明专利]一种补偿装置、曝光装置及曝光补偿方法有效
| 申请号： | 201710707431.5 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN107255907B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 毛元杰;侯学成;卢凯;李京鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种补偿装置、曝光装置及曝光补偿方法。其中，本发明提供的曝光装置，可以通过曝光机基台和曝光机出光口之间的补偿装置，调节出不同浓度的有色溶液对曝光机出射的光线进行遮挡。待处理膜层中膜厚越薄的位置，投影位置处有色溶液的浓度越高，从而对待处理膜层的感光深度进行定量补偿，以实现曝光量与待处理膜层膜厚的匹配性，使得曝光后在基板上形成精密的结构尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 补偿 装置 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种补偿装置，应用于曝光机，其特征在于，所述补偿装置包括溶液盒；所述溶液盒内注有有色溶液，其中，所述有色溶液用于调节曝光机出射光线的透过率，以对待处理膜层的感光深度进行定量补偿。
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