[发明专利]曝光设备和曝光方法有效

专利信息
申请号: 201710682101.5 申请日: 2017-08-10
公开(公告)号: CN107966882B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 钱俊;翟思洪 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了曝光设备和曝光方法,所述曝光设备包括控制系统、光源系统、照明系统及投影物镜,所述照明系统设有多套,每套所述照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器,各照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给所述控制系统,所述控制系统控制各所述照明系统的可变衰减器调节对应支路的照度。在本发明提供的曝光设备和曝光方法中,所述曝光设备设有多套照明系统,每套照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器,通过照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给控制系统,使控制系统控制各照明系统的可变衰减器调节对应支路的照度,提高曝光性能,对于能量调整精度高并能快速调整,实现精确控制,提高曝光精度。
搜索关键词: 曝光 设备 方法
【主权项】:
一种曝光设备,包括控制系统、光源系统、照明系统及投影物镜,其特征在于,所述照明系统设有多套,每套所述照明系统均包括可变衰减器和支路能量探测器,所述光源系统包括光源发生器,所述光源发生器发出的照明光束入射至所述照明系统,各所述照明系统的支路能量探测器探测对应支路的照度并反馈给所述控制系统,所述控制系统控制各所述照明系统的可变衰减器调节对应支路的照度。
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