[发明专利]发光装置和发光装置的制造方法有效
| 申请号： | 201710664309.4 | 申请日： | 2017-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN107689413B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 若松大;佐野雅彦 | 申请（专利权）人： | 日亚化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/60 | 分类号： | H01L33/60;H01L33/20;H01L33/50;H01L33/38;H01L33/46;H01L33/62;F21S43/30;F21S43/14;F21V9/32;F21V7/30;F21V5/00;F21W107/10;F21W103/35 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种发光装置和发光装置的制造方法。本发明提供能够抑制发光效率降低且抑制色差的发光装置。所述发光装置具有：发光元件，发出第一种光；荧光体层，设置在发光元件的发光面上且含有荧光体，所述荧光体被第一种光激发而发出波长比第一种光的波长更长的第二种光；反射膜，设置在荧光体层上，反射第一种光且透射第二种光；以及透光性部件，与反射膜相接地设置。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种发光装置，其特征在于，具有：发光元件，发出第一种光；荧光体层，设置在所述发光元件的发光面上且含有荧光体，所述荧光体被所述第一种光激发而发出波长比所述第一种光的波长更长的第二种光；反射膜，设置在所述荧光体层上，反射所述第一种光且透射所述第二种光；以及透光性部件，与所述反射膜相接地设置。
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