[发明专利]高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺有效
| 申请号： | 201710607527.4 | 申请日： | 2017-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN107353833B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 崔凌霄;谢兵;杨国胜;张存瑞;刘致文;赵延;程磊;杜悦;张倩悦 | 申请（专利权）人： | 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 | 代理人： | 张宇峰 |
| 地址： | 014010 内蒙古自*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺，制取碳酸铈浆料，碳酸铈浆料经升温、灼烧制备纳米级的氧化铈；将氧化铈用去离子水调浆，经高速剪切乳化、高速离心分离、超声波分散后制得氧化铈抛光浆料。本发明得到的CMP氧化铈抛光浆料具有选择性高、切削速率高、耐磨性好、颗粒集中、不团聚等优点，适于工业生产和控制。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 隔离 化学 机械抛光 浆料 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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