[发明专利]薄膜晶体管和包括该薄膜晶体管的薄膜晶体管阵列面板有效
申请号: | 201710541480.6 | 申请日: | 2017-07-05 |
公开(公告)号: | CN107579111B | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 金成虎;申旼澈 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L29/43 | 分类号: | H01L29/43;H01L29/51;H01L29/786;H01L27/12 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;韩明花 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供了一种薄膜晶体管和包括该薄膜晶体管的薄膜晶体管阵列面板。所述薄膜晶体管包括半导体层、栅电极和绝缘层。半导体层包括源电极、漏电极以及设置在源电极和漏电极之间的沟道部。栅电极设置在沟道部上,并且沿与半导体层的沟道长度方向交叉的方向延伸。绝缘层包括设置在栅电极和沟道部之间的第一区域以及连接到第一区域且从第一区域沿与栅电极的延伸方向相同的方向延伸的第二区域。源电极或漏电极的氢含量在比绝缘层的第二区域的氢含量大大约10%的最大氢含量与比绝缘层的第二区域的氢含量小大约10%的最小氢含量之间的范围内。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 包括 阵列 面板 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:半导体层,包括源电极、漏电极以及设置在所述源电极和所述漏电极之间的沟道部;栅电极,设置在所述沟道部上,并且沿与所述半导体层的沟道长度方向交叉的方向延伸;以及绝缘层,包括设置在所述栅电极和所述沟道部之间的第一区域以及连接到所述第一区域且从所述第一区域沿与所述栅电极的延伸方向相同的方向延伸的第二区域,其中,所述源电极的氢含量或所述漏电极的氢含量在比所述绝缘层的所述第二区域的氢含量大10%的最大氢含量与比所述绝缘层的所述第二区域的氢含量小10%的最小氢含量之间的范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710541480.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种黄土工程振动促渗测试系统
- 下一篇:一种多孔材料湿物性测量装置
- 同类专利
- 专利分类