[发明专利]一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机及镀膜方法在审
| 申请号： | 201710495787.7 | 申请日： | 2017-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN107245701A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 潘振强;朱惠钦 | 申请（专利权）人： | 广东振华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/20 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜领域，具体公开多靶材磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室和安装支架，置于真空室内的卷绕系统、磁控溅射系统和离子源放电系统，所述真空室内分成相互独立的卷材收卷放卷室和靶材室，所述真空室上设有前门和后门，所述卷材收卷放卷室为前门内侧的空腔区域，所述靶材室置于后门内侧的空腔，所述磁控溅射系统包括若干组相互隔离设置的平面靶，各平面靶安装在后门的背面。本发明所述的镀膜机将卷绕系统和磁控溅射系统全部布置于同一真空腔室内部，相互隔离设置，便于溅射不同材料靶材，从而在卷材表面依次沉积不同类型薄膜，实现大批量产品表面的薄膜制备，结构简单，操作便利，提高生产效率，同时制备出的金属薄膜具有较强的导电性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多靶材 磁控溅射 卷绕 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种多靶材磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室和安装支架，置于真空室内的卷绕系统、磁控溅射系统和离子源放电系统，其特征在于：所述真空室内分成相互独立的卷材收卷放卷室和靶材室，所述真空室上设有前门和后门，所述卷材收卷放卷室为前门内侧的空腔区域，所述靶材室置于后门内侧的空腔，所述卷绕系统置于收卷防卷室内，所述磁控溅射系统包括若干组平面靶，该若干组平面靶之间相互隔离设置，且各平面靶安装在后门的背面。
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