[发明专利]一种钛基多层膜钎料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种钛基多层膜钎料，包括一层基体钎料及覆盖在基体钎料上下两个表面的多层纳米薄膜，基体钎料和纳米薄膜之间以及相邻的纳米薄膜之间设置有阻挡层。基体钎料为钛铜钎料或钛镍钎料，其中钛的重量份为50‑92份，铜或镍的重量份为10‑65份，纳米薄膜与基体钎料的组分以及组分的含量均相同。本发明采用真空原位生成、磁控溅射复合表面处理技术成功研制钛基多层膜钎料，即钛基箔带钎料，解决传统钛基薄带钎料的成形难题，该钎料具有熔化温度低、润湿性好、钎焊温度低，可在超高真空条件下实现钛合金、铜合金、镍合金等的钎焊连接。

主权项

1.一种钛基多层膜钎料，其特征在于：包括一层基体钎料及覆盖在基体钎料上下两个表面的多层纳米薄膜，基体钎料和纳米薄膜之间以及相邻的纳米薄膜之间设置有阻挡层；上述的钛基多层膜钎料的制备方法，具体步骤如下：（1）先在基体钎料表面真空原位生成阻挡层，然后在阻挡层表面磁控溅射与基体钎料成分相同的纳米薄膜；（2）再在步骤（1）得到的纳米薄膜表面真空原位生成阻挡层，蒸镀完毕后再次在阻挡层表面磁控溅射与步骤（1）同厚度同成分的纳米薄膜；（3）重复步骤（2）10‑50次，可得到钛基多层膜钎料；所述真空原位生成的具体步骤为：先将电弧离子镀装置抽真空至10^‑4‑10^‑3 Pa，充入氩气，基体钎料接电源正极，电压为50‑60V；将钽丝通电，发射电子使氩气分子离化为等离子体，产生等离子体电子束，进入镀膜室后，受基体钎料吸引而加速，轰击基体钎料，使之加热至350‑370℃；再将基体钎料电源切断与辅助阳极相接，基体钎料接‑200V偏压，放电在阴极与辅助阳极之间进行，基体钎料吸引Ar⁺，被Ar⁺溅射净化；然后将辅助阳极电源切断，再加到坩埚上，此时电子束被聚焦磁场汇聚于坩埚上，轰击加热镀料使之蒸发，并在基体钎料表面沉积为薄膜。