[发明专利]聚硅氧烷-金属有机框架材料杂化渗透蒸发复合膜及其制备与应用

摘要

本发明公开一种聚硅氧烷‑金属有机框架材料杂化渗透蒸发复合膜，由分离层与支撑层组成；分离层厚度为5～15微米，由聚二甲基硅氧烷(PDMS)高分子膜基质与金属有机框架材料UiO‑67‑bpydc或铜修饰UiO‑67‑bpydc纳米或亚微米颗粒填充剂构成，UiO‑67‑bpydc与高分子膜基质PDMS的质量比是2～8％。将一定量的填充剂颗粒在溶剂中超声分散，在所得悬浊液中加入羟基封端PDMS低聚物与硅烷偶联剂，搅拌溶解形成铸膜液，加入催化剂；将铸膜液涂覆在支撑层上表面，自然晾干，放入烘箱热处理。填充剂可提高膜的渗透性，并利用自身的功能基团保持膜的选择性，从而提高膜分离性能。本发明制备方法简便易操作，制得的膜用于渗透蒸发油品脱硫过程，有较高的分离性能。

主权项

1.一种聚硅氧烷‑金属有机框架材料杂化渗透蒸发复合膜，由分离层与支撑层组成；所述支撑层由多孔的超滤膜组成；其特征在于：所述分离层的厚度为5～15微米，由致密的高分子膜基质与分散在高分子膜基质内的金属有机框架材料填充剂组成；所述高分子膜基质是PDMS；所述金属有机框架材料填充剂是UiO‑67‑bpydc纳米或亚微米颗粒和铜修饰UiO‑67‑bpydc纳米或亚微米颗粒中的任意一种或其混合物；所述金属有机框架材料填充剂中UiO‑67‑bpydc与所述PDMS的质量比是2～8％；所述UiO‑67‑bpydc纳米或亚微米颗粒由锆离子与2,2′‑联吡啶‑5,5′‑二羧酸配体组成；所述铜修饰UiO‑67‑bpydc纳米或亚微米颗粒中，铜与锆的摩尔比是28.2～60.4％；所述超滤膜是聚砜、聚醚砜、聚偏氟乙烯超滤膜中的任意一种，所述超滤膜的截留分子量是10～100kDa。