[发明专利]一种掩膜版、过孔的制作方法及显示基板的制作方法

摘要

本发明公开一种掩膜版、过孔的制作方法及显示基板的制作方法，涉及显示基板制作技术领域，防止形成的过孔远离光刻胶的一侧残留有薄膜的材料。所述掩膜版包括板体和呈环状的半色调片，板体上开设有透光孔，透光孔包括位于透光孔的中部、且与待制作的过孔对应的全透区，半色调片环绕全透区设置，并遮蔽透光孔除全透区以外的区域。利用所述掩膜版对光刻胶曝光，光刻胶与全透区对应的区域被完全曝光，光刻胶与半色调片对应的区域被部分曝光，对光刻胶显影，光刻胶中形成的孔状结构的孔壁相对薄膜朝向光刻胶的表面的坡度较小，对薄膜进行刻蚀时，增加与薄膜接触的刻蚀介质的数量，改善刻蚀效果，防止形成的过孔远离光刻胶的一侧残留有薄膜的材料。

主权项

1.一种掩膜版，其特征在于，包括板体和呈环状的半色调片，所述板体上开设有透光孔，所述透光孔包括位于所述透光孔的中部、且与待制作的过孔对应的全透区，所述半色调片环绕所述全透区设置，并遮蔽所述透光孔除所述全透区以外的区域；由所述半色调片的内环指向所述半色调片的外环的方向，所述半色调片的透光率逐渐减小。