[发明专利]原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法有效
| 申请号： | 201710329863.7 | 申请日： | 2017-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN107015029B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 陈建;龚勇;代祖洋;辜其隆;林小力 | 申请（专利权）人： | 四川理工学院 |
| 主分类号： | G01Q60/24 | 分类号： | G01Q60/24 |
| 代理公司： | 50212 重庆博凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 孔玲珑 |
| 地址： | 643000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，包括以下步骤：1）配置浓度为0.1~5 wt%的有机高分子溶液并静置24h；2）沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上，自然干燥至恒重以去除溶剂，使基底材料的表面包覆一层表面平整的高分子薄膜，得到覆膜基底材料，备用；3）将待测碳素分子材料均匀分散在良溶剂中，超声分散30min，获得呈暗黑色的碳素分子分散液，备用；4）取碳素分子分散液均匀滴在覆膜基底材料覆有高分子薄膜的一面上，然后在覆膜基底材料的另一面加热，以使待测碳素分子材料固定到高分子薄膜上，制得碳素材料样本，用以在AFM接触模式下进行稳定测定其表面性质。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 显微镜 接触 模式 表征 碳素 材料 样本 制做 方法 | ||
【主权项】：
1.原子力显微镜接触模式表征用碳素材料样本的制做方法，其特征在于，包括以下步骤：/n1）配置浓度为0.1~5 wt%的有机高分子溶液并静置24h；/n2）沾取有机高分子溶液涂覆在基底材料上，自然干燥至恒重以去除溶剂，使基底材料的表面包覆一层表面平整的高分子薄膜，得到覆膜基底材料，备用；/n3）将待测碳素分子材料均匀分散在良溶剂中，超声分散30min，获得呈暗黑色的碳素分子分散液，备用；/n4）取碳素分子分散液均匀滴在覆膜基底材料覆有高分子薄膜的一面上，然后在覆膜基底材料的另一面加热，以使待测碳素分子材料固定到高分子薄膜上，并且待测碳素分子材料部分陷入高分子薄膜内，制得碳素材料样本，用以在AFM接触模式下进行稳定测定其表面性质；/n步骤1）中所述的有机高分子溶液为聚乙烯醇、环氧树脂或聚偏氟乙烯溶液；步骤4）中，在覆膜基底材料的另一面加热时间为10~100 s，加热设备为电吹风。/n
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