[发明专利]新型高靶材利用率平面磁控溅射阴极

摘要

本发明提供了一种新型的平面磁控溅射阴极，该平面磁控溅射阴极包括靶材、背板、磁体装置以及导磁板，靶材设置在背板的一侧，导磁板设置在背板的另一侧，磁体装置设置在背板和导磁板之间，其中，磁体装置包括中间磁体和环绕该中间磁体的外圈磁体，中间磁体包括至少两个电磁铁，外圈磁体和中间磁体朝向靶材的磁极其二者极性相反；平面磁控溅射阴极还包括电磁铁电源，该电磁铁电源与该至少两个电磁铁连接，为该至少两个电磁铁依次供电以使外圈磁体和中间磁体之间的磁场分布不断发生变化。实施本发明可以有效提高靶材的利用率、防止靶材污染、提高溅射速率的稳定性。此外，本发明所提供的平面磁控溅射阴极还具有结构简单、易于控制、可靠性高的特点。

主权项

1.一种平面磁控溅射阴极，该平面磁控溅射阴极包括靶材、背板、磁体装置以及导磁板，所述靶材设置在所述背板的一侧，所述导磁板设置在所述背板的另一侧，所述磁体装置设置在所述背板和所述导磁板之间，其中：所述磁体装置包括中间磁体和环绕该中间磁体的外圈磁体，所述中间磁体包括至少两个电磁铁，所述外圈磁体和所述中间磁体朝向所述靶材的磁极其二者极性相反，其中，所述靶材为圆形靶材时，所述外圈磁体呈圆环形状、设置在与所述圆形靶材边缘对应的位置，所述至少两个电磁铁围绕所述外圈磁体的中心轴均匀分布在一个圆周上，所述靶材为矩形靶材时，所述外圈磁体呈矩形环形状、设置在与所述矩形靶材边缘对应的位置，所述至少两个电磁铁均呈长条形状，平行于所述外圈磁体的轴截面并且关于所述轴截面对称分布；所述平面磁控溅射阴极还包括电磁铁电源，该电磁铁电源与所述至少两个电磁铁连接，为所述至少两个电磁铁依次供电以使所述外圈磁体和所述中间磁体之间的磁场分布不断发生变化。