[发明专利]化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减有效
申请号: | 201710251847.0 | 申请日: | 2013-06-21 |
公开(公告)号: | CN107267964B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 古瑞·塔斯;周进;权大元 | 申请(专利权)人: | 维易科仪器有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48;C23C16/52 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;吴琼 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了化学气相沉积反应器中辐射测量偏离误差的缩减,涉及高温计系统以推断空间温度分布,其包含:复数个辐射测温计,观察对应复数相邻焦外目标物,各辐射测温计包含远心光学装置,其包含由一或多个光学元件构成的限定相对于物组件内参考点的焦距的物组件以传输辐射;孔径光闸,接收由物组件传输的辐射,物组件及孔径光闸限定通过参考点的光学轴,孔径光闸位于与参考点相隔一段基本等于物组件焦距的距离,以将来自对应复数相邻焦外目标物中的各自目标物的辐射中的被探测部分聚焦于孔径光闸;及电磁辐射探测器,探测由物组件通过孔径光闸传输辐射之被探测部分,产生由其推断对应复数相邻焦外目标物中的各自目标物温度的信号。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 反应器 辐射 测量 偏离 误差 缩减 | ||
【主权项】:
一种高温计系统,用以推断空间温度分布,该高温计系统包含:复数个辐射测温计,用以观察对应的复数个相邻的焦外目标物,该复数个辐射测温计中各包含第一远心光学装置,该第一远心光学装置包含由一个或多个光学元件构成的物组件用以传输辐射,该物组件限定出相对于该物组件内参考点的焦距;第一孔径光闸,用以接收由该物组件传输的辐射,该物组件及该第一孔径光闸限定出通过该参考点的第一光学轴,该第一孔径光闸位于与该参考点相隔一段距离,该距离基本等于该物组件的该焦距,以将来自于该对应的复数个相邻焦外目标物中的各自目标物的该辐射中的第一被探测部分聚焦于该第一孔径光闸上;及第一电磁辐射探测器,用以探测由该物组件通过该第一孔径光闸所传输该辐射之该第一被探测部分,该第一电磁辐射探测器产生第一信号,由该第一信号推断出该对应的复数个相邻焦外目标物中的各自目标物的温度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的