[发明专利]反应腔室的进气机构、反应腔室及外延生长设备在审
申请号: | 201710233212.8 | 申请日: | 2017-04-11 |
公开(公告)号: | CN108691008A | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 袁福顺 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | C30B25/14 | 分类号: | C30B25/14;C30B25/08;C23C16/455 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供的反应腔室的进气机构、反应腔室及外延生长设备,其包括进气腔体和匀流板,进气腔体包括朝向反应腔室的进气端面,匀流板设置在进气腔体的进气端面上;在进气腔体中形成有沿水平方向依次排列的多个进气腔,每个进气腔均延伸至进气端面;在进气腔体中还设置有多个进气管路,其出气端一一对应地与多个进气腔连通;多个进气管路的进气端延伸至进气腔体的外部;在匀流板中设置有多组进气孔组,每个进气腔对应一组进气孔组,每组进气孔组包括多个进气孔,进气孔的进气端和进气腔连通,进气孔的出气端与反应腔室相连通。本发明提供的反应腔室的进气机构,其可以提高进入反应腔室的工艺气体的分布均匀性,从而可以提高工艺均匀性。 | ||
搜索关键词: | 反应腔室 进气腔体 进气孔 进气腔 进气机构 进气端 外延生长设备 进气端面 进气管路 出气端 匀流板 连通 分布均匀性 工艺均匀性 工艺气体 依次排列 延伸 和匀 流板 外部 | ||
【主权项】:
1.一种反应腔室的进气机构,其特征在于,包括进气腔体和匀流板,所述进气腔体包括朝向所述反应腔室的进气端面,所述匀流板设置在所述进气腔体的进气端面上;在所述进气腔体中形成有沿水平方向依次排列的多个进气腔,每个进气腔均延伸至所述进气端面;并且,在所述进气腔体中还设置有多个进气管路,所述多个进气管路的出气端一一对应地与所述多个进气腔连通;所述多个进气管路的进气端延伸至所述进气腔体的外部;在所述匀流板中设置有多组进气孔组,每个所述进气腔对应一组所述进气孔组,并且每组所述进气孔组包括多个进气孔,所述进气孔的进气端和所述进气腔连通,所述进气孔的出气端与所述反应腔室相连通。
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