[发明专利]经由偏置的多端口喷射装置的径向和厚度控制

摘要

本发明涉及经由偏置的多端口喷射装置的径向和厚度控制。本发明公开了气体分布系统，以便在交叉流动反应器中的衬底上获得更好的膜均匀性。可以通过对气体分布系统的单独喷射端口的不对称偏置实现更好的膜均匀性。气体分布可以允许膜性质的变化的可调性。

主权项

一种在衬底上形成均匀膜的方法，所述方法包括：提供反应室，所述反应室保持待处理的衬底；提供第一多端口喷射器组件，所述第一多端口喷射器组件包括用于将第一气体从第一气体源提供到所述衬底的第一多个单独端口喷射器；提供第二多端口喷射器组件，所述第二多端口喷射器组件包括用于将第二气体从第二气体源提供到所述衬底的第二多个单独端口喷射器；利用所述第一多端口喷射器组件使所述第一气体流动到所述衬底上，其中所述第一多端口喷射器组件具有不对称偏置的所述第一多个单独端口喷射器；以及利用所述第二多端口喷射器组件使所述第二气体流动到所述衬底上，其中所述第二多端口喷射器组件具有不对称偏置的所述第二多个单独端口喷射器；其中实现所述第一气体和所述第二气体在所述衬底各处的基本上均匀的分布；以及其中在所述衬底上所述第一气体和所述第二气体之间发生反应以形成第一膜。