[发明专利]导电图案结构及其制备方法、阵列基板和显示装置有效
| 申请号： | 201710161607.1 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106887424B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 汪建国 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/532 | 分类号： | H01L23/532;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种导电图案结构，该导电图案结构包括：依次层叠设置的第一金属层和第二金属层，其中，所述第二金属层覆盖所述第一金属层的上表面和全部侧表面；所述第一金属层的材料的金属活性比所述第二金属层的材料的金属活性强。本公开根据金属活动顺序表中金属还原性强弱的顺序，采用常规的置换反应，在第一金属层上形成包覆于其上表面和全部侧表面的第二金属层，从而降低了导电图案结构制作工艺的复杂性，且避免了低电阻金属中的金属离子扩散至有源层中破坏显示器件稳定性的问题，进而避免了产品良率下降的问题，除此之外，由于置换反应对设备和外界环境的要求较低，从而可以降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 图案 结构 及其 制备 方法 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
一种导电图案结构，包括：依次层叠设置的第一金属层和第二金属层，其中，所述第二金属层覆盖所述第一金属层的上表面和全部侧表面；所述第一金属层的材料的金属活性比所述第二金属层的材料的金属活性强。
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