[发明专利]图案形成方法有效
| 申请号： | 201710155257.8 | 申请日： | 2017-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN107193186B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 浜口仁;田中健朗;河口和雄 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/30;G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种削减光刻步骤数、且可形成微细的图案的图案形成方法及感放射线性树脂组合物。本发明的图案形成方法包括：在基板上形成具有疏液性、且通过照射能量而亲液化的第1涂膜的步骤；将基板上的第1区域的绝缘层去除的步骤；以及在配置于基板上的除第1区域以外的区域的至少一部分中的第2区域中形成凹图案的步骤；且将第1区域的绝缘层去除的步骤包含照射特定波长的能量并使第1区域的第1涂膜接触特定的药液，而将第1区域的第1涂膜去除的步骤，在第2区域中形成凹图案的步骤包含照射特定波长的能量而使第2区域的绝缘层的表面亲液化的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种图案形成方法，其特征在于，包括：在基板上形成通过进行能量照射而导致疏液性变化的第1涂膜的步骤；将所述基板上的第1区域的所述第1涂膜去除的步骤；以及在配置于所述基板上的除所述第1区域以外的区域的至少一部分中的第2区域中形成凹图案的步骤；且将所述第1区域的所述第1涂膜去除的步骤包含照射能量并使所述第1区域的所述第1涂膜接触特定的药液，而将所述第1区域的第1涂膜去除的步骤，在所述第2区域中形成所述凹图案的步骤包含进行能量照射而使所述第2区域的所述第1涂膜的表面亲液化的步骤。
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