[发明专利]单脉冲电沉积光亮双相双峰纳米晶镍钴合金的制备工艺在审
| 申请号： | 201710152042.0 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN106987863A | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 连建设;李松;韩双;李恒;石文辉;周文婷;陈岩;刘方刚;郝晋;孙朔 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C25C1/24 | 分类号： | C25C1/24;C25C7/02;C25D3/56;C25D17/10 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司22201 | 代理人： | 朱世林 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及单脉冲电沉积光亮双相双峰纳米晶镍钴合金的制备工艺。具体步骤是电镀前先将电镀液经活性炭吸附除杂和电解除杂，然后在霍尔槽装置中进行预镀试验确定光亮双相双峰镍钴合金镀层的条件。在PH值稳定在2～5之间，浓度为硫酸镍50～70g/L、氯化镍40～60g/L、硫酸钴40～50g/L为主盐的镀液中进行电镀，以可溶性镍板经表面处理后作为阳极，不锈钢经表面处理后作为阴极，采用单脉冲电沉积光亮双相双峰纳米晶镍钴合金的镀层，其中电沉积时间为2h～4h，脉冲电流密度为2.5～3A/dm2，占空比为20％～40％，周期为1～2ms，搅拌速度为100～500r/min。该方法制得的镍钴合金镀层表面光亮，结构致密，结晶细致，平整性好，无裂纹，且具有很好的耐腐蚀性能和较高的强度和塑性。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 沉积 光亮 双峰 纳米 晶镍钴 合金 制备 工艺 | ||
【主权项】：
单脉冲电沉积光亮双相双峰纳米晶镍钴合金的制备工艺，其特征在于，包括以下工艺步骤：电镀之前先将电镀液经活性炭吸附除杂和电解除杂，然后再在霍尔槽装置中进行预镀试验确定光亮双相纳米晶镍钴合金镀层的条件，然后在以PH值稳定在2～5之间，浓度为硫酸镍50～70g/L、氯化镍40～60g/L、硫酸钴40～50g/L为主盐的镀液中进行电镀，以可溶性镍板经表面处理后作为阳极，不锈钢经表面处理后作为阴极，采用单脉冲电沉积工艺电镀光亮纳米晶双相双峰镍钴合金镀层，其中电沉积时间为2h～4h，脉冲电流密度为2.5～3A/dm2，占空比为20％～40％，周期为1～2ms，电沉积温度为45～65℃，搅拌速度为100～500r/min。
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