[发明专利]具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710123459.4 申请日: 2017-03-03
公开(公告)号: CN106756853B 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 罗正位;范兴策;邱腾 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02;C23C14/58;C25D11/04;G01N21/65
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底及其制备方法,该纳米材料基底是在纳米铝碗衬底上制备氧化钨纳米薄膜,并进行相关的氧含量调控获得。本发明的制备方法利用二次或多次阳极氧化获得的纳米铝碗作为衬底,采用磁控溅射法在衬底上制备氧化钨纳米薄膜,再通过退火处理进行氧含量的调控实现具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨纳米材料基底的制备。本发明的优点在于制备过程简便、成本低,实现了结构有序可控,有很强的表面增强拉曼散射效果。
搜索关键词: 具有 表面 增强 散射 功能 氧化钨 基底 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底的制备方法,其特征在于该基底上的氧化钨薄膜具有六边形蜂窝状纳米结构,该制备方法具体包括以下步骤:第一步,采用阳极氧化铝去氧化后获得具有微纳米有序结构的铝碗作为衬底材料:将铝片依次放入丙酮、超纯水中超声洗净,然后进行电化学抛光,去除表面氧化层和杂质,再进行阳极氧化处理,使其表面产生有序氧化铝;将生成的氧化铝放入去氧化剂中进行去氧化处理,获得具有微纳米有序结构的铝碗;第二步,在衬底上使用磁控溅射法溅射氧化钨纳米薄膜,溅射气体氛围为Ar/O2混合气体,进气量比为1:1,靶材选用高纯度钨靶或氧化钨靶,溅射厚度调控在30~100nm;第三步,将表面有氧化钨纳米薄膜的基底放入真空管式炉,在氢气氛围中进行退火,退火温度为350~500℃,降温后获得最终的活性基底;第四步,将制备的氧化钨纳米材料基底作为拉曼检测基底,以去离子水作为溶剂配制R6G溶液,将该基底浸泡在R6G溶液中,浸泡时间均为3~5小时,被浸泡的基底捞出后,待R6G溶液挥发,再进行拉曼检测。
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