[发明专利]能够分散应力的半导体装置在审
申请号: | 201710108000.7 | 申请日: | 2017-02-27 |
公开(公告)号: | CN107204316A | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
发明(设计)人: | 金永培 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 刘美华,刘灿强 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种半导体装置。所述半导体装置包括半导体基底,包括设置在其中的电路层;焊盘,设置在半导体基底上,焊盘电连接到电路层;以及金属层,电连接到焊盘。金属层包括第一通路,电连接到焊盘,第一通路在金属层与电路层之间提供电路径;以及第二通路,朝向半导体基底突出,第二通路在半导体基底上支撑金属层。 | ||
搜索关键词: | 能够 分散 应力 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,所述半导体装置包括:半导体基底,包括设置在半导体基底中的电路层;焊盘,设置在半导体基底上,焊盘电连接到电路层;以及金属层,电连接到焊盘,其中,金属层包括:第一通路,电连接到焊盘,第一通路在金属层与电路层之间提供电路径;以及第二通路,朝向半导体基底突出,第二通路在半导体基底上支撑金属层。
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