[发明专利]一种显示基板的制作方法及显示基板有效
申请号: | 201710058736.8 | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN106783936B | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 谢蒂旎;张晓晋;李伟 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种显示基板的制作方法及显示基板,用以解决现有的OLED基板的制作工艺流程中,在制作时有机发光功能层会因为浸润的作用而使其形状发生弯曲,进而导致像素内部边缘区域的发光不均匀,影响整个器件的发光性能的问题。该方法包括:在衬底基板的非显示区域形成像素定义层,像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层;在衬底基板的显示区域形成有机发光功能层;在像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。在制作显示基板时,可以通过增加的遮挡膜层,遮住非显示区域中造成发光不均匀的有机发光功能层的边缘区域,进而改善像素内部发光不均匀的现象,提高了整个显示基板的发光性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 显示 制作方法 | ||
【主权项】:
一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板的非显示区域形成像素定义层,所述像素定义层包括位于上层的疏水层和位于下层的亲水层;在所述衬底基板的显示区域形成有机发光功能层;在所述像素定义层上形成仅覆盖非显示区域的遮挡膜层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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