[发明专利]用于将印刷电路板的通孔无电镀铜的方法、用于其的催化溶液以及用于制备催化溶液的方法有效
申请号: | 201710041299.9 | 申请日: | 2017-01-19 |
公开(公告)号: | CN107022755B | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 金建汎;赵昭娟 | 申请(专利权)人: | 奥凯姆株式会社 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20;C23C18/30;C23C18/38;H05K3/42 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 牛海军 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供用于将印刷电路板的通孔无电镀铜的方法、用于其的催化溶液以及用于制备催化溶液的方法。具体地,提供了一种用于将其中层叠导电层和非导电层的印刷电路板的通孔无电镀铜的方法。所述方法包括:使用碱性预浸溶液对通孔进行阴离子化;使用含有配位化合物的催化溶液对通孔进行催化剂处理,所述配位化合物由钯离子以及选自吡啶和3‑吡啶甲醇的钯离子配体组成;和在通孔的表面上进行无电镀铜。 | ||
搜索关键词: | 通孔 催化溶液 无电镀铜 印刷电路板 配位化合物 钯离子 制备 催化剂处理 非导电层 阴离子化 吡啶甲醇 导电层 配体 预浸 | ||
【主权项】:
一种将其中层压导体层和非导体层的印刷电路板的通孔无电镀铜的方法,所述方法包括:使用碱性预浸溶液将所述通孔阴离子化,所述碱性预浸溶液含有选自硫酸的钠盐的阴离子赋予剂;使用含有配位化合物的催化溶液对所述通孔进行催化,所述配位化合物由钯离子以及选自吡啶或3‑吡啶甲醇的钯离子配体组成;和将所述通孔的表面无电镀铜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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