[实用新型]一种喷射沉积平台用的喷射机构有效
申请号: | 201621104105.2 | 申请日: | 2016-10-09 |
公开(公告)号: | CN206109520U | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 范才河;欧阳风茂;陈喜红;阳建君;欧玲;孙斌;彭英彪;刘小超 | 申请(专利权)人: | 湖南工业大学 |
主分类号: | C23C4/123 | 分类号: | C23C4/123 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 412000 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型涉及有色冶金、冶金材料设备技术领域,提供一种喷射沉积平台用的喷射机构,它包括有喷射管、喷射座、喷射筒和喷嘴,所述喷射筒的底部设有喷射座,所述喷射座侧壁上设有固定块和喷射管,所述喷射座中心处设有凹槽,所述凹槽底部设有用于安装喷嘴的通孔,所述凹槽中设有喷嘴,所述喷嘴头部与所述通孔连接,所述喷嘴头部呈圆台状,所述喷嘴头部顶端设有设有中心喷射孔,所述喷嘴头部外周设有与沉积孔,所述沉积孔内壁与所述喷嘴头部外周之间设有间隙距离形成聚粉通道,所述喷嘴尾部呈环状,所述喷嘴的头部与尾部之间通过卡环或卡箍或焊接连接;本方案具有结构紧凑、设计合理、喷射效果好、使用寿命长的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 喷射 沉积 平台 机构 | ||
【主权项】:
一种喷射沉积平台用的喷射机构,其特征在于:它包括有喷射管(D1)、喷射座(D2)、喷射筒(D3)和喷嘴(D4),所述喷射筒(D3)的底部设有喷射座(D2),所述喷射座(D2)侧壁上设有固定块(D5)和喷射管(D1),所述喷射座(D2)中心处设有凹槽,所述凹槽底部设有用于安装喷嘴的通孔,所述凹槽中设有喷嘴(D4),所述喷嘴(D4)头部与所述通孔连接,所述喷嘴(D4)头部呈圆台状, 所述喷嘴(D4)头部顶端设有设有中心喷射孔(D7),所述喷嘴(D4)头部外周设有与沉积孔(D6),所述沉积孔(D6)内壁与所述喷嘴(D4)头部外周之间设有间隙距离形成聚粉通道,所述喷嘴(D4)尾部呈环状。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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