[实用新型]一种旋转式基板加工处理系统有效
申请号: | 201621037390.0 | 申请日: | 2016-09-05 |
公开(公告)号: | CN206022342U | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 王义正 | 申请(专利权)人: | 奇勗科技股份有限公司;王义正 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 王玉双,鲍俊萍 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种旋转式基板加工处理系统,包含一辅助基板、一基板承载单元、一驱动单元、一加工处理单元、一气体供应单元及一液体供应单元,该辅助基板具有一外环区域及一受该外环区域围绕的中空区域,该中空区域为一非圆形且供一非圆形基板固定,该基板承载单元包括一定义出一处理腔室的环形承载元件,包括一朝该处理腔室延伸且供该辅助基板的该外环区域靠置的凸缘以及一朝该辅助基板的一厚度方向延伸的挡墙,该驱动单元与该处理腔室连接,该加工处理单元设置于该处理腔室内,该气体供应单元和该液体供应单元分别提供一气体和一化学药剂至该处理腔室。 | ||
搜索关键词: | 一种 旋转 式基板 加工 处理 系统 | ||
【主权项】:
一种旋转式基板加工处理系统,是针对一非圆形基板进行处理,其特征在于,该旋转式基板加工处理系统包含:一供该非圆形基板设置的辅助基板,该辅助基板具有一外环区域以及一受该外环区域围绕的中空区域,该中空区域为一非圆形且固定该非圆形基板;一基板承载单元,包括一环形承载元件,该环形承载元件为定义出一处理腔室,且该环形承载元件包括一朝该处理腔室延伸且供该辅助基板的该外环区域靠置的凸缘以及一朝该辅助基板的一厚度方向延伸的挡墙;一与该处理腔室连接的驱动单元,该驱动单元包含一驱动该处理腔室转动的转动轴;一设置于该处理腔室内的加工处理单元,该加工处理单元包含一位于该非圆形基板的一待加工区域一侧的工作平台、多个设置于该工作平台上的出气孔洞以及多个设置于该工作平台上的出液孔洞;一提供一气体至该处理腔室以使该非圆形基板与该工作平台相隔一间距的气体供应单元,该气体供应单元与多个该出气孔洞相互连接;以及一提供一化学药剂至该处理腔室以与该非圆形基板的该待加工区域接触的液体供应单元,该液体供应单元与多个该出液孔洞相互连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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