[实用新型]一种DFB激光器的外延结构有效
| 申请号： | 201620685787.4 | 申请日： | 2016-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN205752984U | 公开（公告）日： | 2016-11-30 |
| 发明（设计）人： | 单智发 | 申请（专利权）人： | 单智发 |
| 主分类号： | H01S5/12 | 分类号： | H01S5/12;H01S5/343 |
| 代理公司： | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 | 代理人： | 汤云武 |
| 地址： | 361000 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种DFB激光器的外延结构，包括InP衬底，在InP衬底上自下而上依次设置有缓冲层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层、第二缓冲层、腐蚀阻挡层、包层和光栅层；在光栅层上面设置有二次外延层，所述二次外延层自下而上包括光栅包层、势垒渐变层和欧姆接触层，所述光栅包层包括光栅覆盖层和过渡层，所述光栅覆盖层厚度比光栅层厚度大1.5nm‑8nm。进一步，所述欧姆接触层的上端面为单脊波导结构；优选所述光栅层的波长为1100nm。本实用新型能防止光栅层被刻蚀，提升DFB激光器外延结构品质，降低DFB激光器的应用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 dfb 激光器 外延 结构 | ||
【主权项】：
一种DFB激光器的外延结构，包括InP衬底，在InP衬底上自下而上依次设置有缓冲层、下限制层、下波导层、有源层、上波导层、上限制层、第二缓冲层、腐蚀阻挡层、包层和光栅层；在光栅层上面设置有二次外延层，其特征在于：所述二次外延层自下而上包括光栅包层、势垒渐变层和欧姆接触层，所述光栅包层自下而上包括光栅覆盖层和过渡层，所述光栅覆盖层厚度比光栅层厚度大1.5nm‑8nm。
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