[实用新型]采用扫描式蒸发源的镀膜装置

摘要

本实用新型涉及薄膜制备技术，具体涉及一种采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法，其特征在于：在真空镀膜室内设置盛放基片的镀膜工件架，扫描式蒸发源设置在真空镀膜室上。扫描式蒸发源中的坩埚可以定点、定时、扫描方式运动并进行膜料蒸发；扫描式蒸发源还设置有与真空镀膜室相对独立的加药腔室，可使膜料的添加、预热和真空镀膜室的镀膜工序分隔开来。本实用新型的优点是：可实现在不借助膜厚补正板的情况下，工件架上所有基片的镀膜厚度满足均匀性要求，提升了膜料利用率和镀膜效率，降低了镀膜成本；能够实现加药腔室中的加药、排气和预热工序与真空镀膜室中的排气、镀膜工序同步进行，提升了生产效率和膜层质量。

主权项

一种采用扫描式蒸发源的镀膜装置，包括真空镀膜室、蒸发源，所述真空镀膜室内设置有镀膜工件架，所述镀膜工件架上放置有基片，所述蒸发源位于于所述真空镀膜室，其特征在于：所述蒸发源为扫描式蒸发源，所述扫描式蒸发源具有坩埚、坩埚移动导向机构，所述坩埚移动导向机构连接控制所述坩埚，以实现所述坩埚在所述真空镀膜室内的移动。