[发明专利]靶材组件的处理方法在审
| 申请号： | 201611270763.3 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN108265274A | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;刘霞 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐文欣;吴敏 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种靶材组件的处理方法，包括：提供靶材组件，所述靶材组件包括背板和靶材，所述靶材位于所述背板上，所述靶材组件包括核心区和处理区，所述核心区与所述处理区邻接，所述处理区包围所述核心区，所述靶材位于所述核心区和部分所述处理区内；对所述处理区的部分靶材和部分背板进行喷砂处理，在所述部分靶材和部分背板的表面形成粗糙层；对所述粗糙层进行熔射处理，在所述粗糙层上形成膜层。所述方法处理后的靶材组件应用到磁控溅射较长时间时，即使靶材原子在所述膜层上形成堆积，所述靶材原子也不会脱落，成膜质量好，靶材利用率高，从而显著延长靶材的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材组件 靶材 处理区 核心区 背板 粗糙层 靶材原子 膜层 靶材利用率 表面形成 磁控溅射 喷砂处理 使用寿命 邻接 成膜 熔射 堆积 包围 应用 | ||
【主权项】：
1.一种靶材组件的处理方法，其特征在于，包括：提供靶材组件，所述靶材组件包括背板和靶材，所述靶材位于所述背板上，所述靶材组件包括核心区和处理区，所述核心区与所述处理区邻接，所述处理区包围所述核心区，所述靶材位于所述核心区和部分所述处理区内；对所述处理区的部分靶材和部分背板进行喷砂处理，在所述部分靶材和部分背板的表面形成粗糙层；对所述粗糙层进行熔射处理，在所述粗糙层上形成膜层。
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