[发明专利]一种耐刻蚀性的酚醛系正型光刻胶

摘要

本发明公开一种耐刻蚀性的酚醛系正型光刻胶，其主要成分为酚醛树脂、光敏化合物和溶剂，特点在于，所述酚醛系正型光刻胶中还含0.5～30 wt%的可溶于所述溶剂的金属化合物。本发明所述的光刻胶在光刻后的干法刻蚀工序中，等离子体对胶膜图形进行物理轰击和化学反应双重作用刻蚀，胶层中的碳氧成分形成挥发性反应物被去除，而金属成分则会慢慢沉积下来，并在胶膜表面形成新的金属保护层，从而达到提高光刻胶耐刻蚀的目的。本发明所述光刻胶可广泛应用于需要干法刻蚀的微电子元器件生产的领域。

主权项

1.一种耐刻蚀性的酚醛系正型光刻胶，主要成分为酚醛树脂、光敏化合物和溶剂，其特征在于，所述酚醛系正型光刻胶中含0.5～30wt％的可溶于所述溶剂的金属化合物；/n所述金属化合物是由选自包括镁、钙、钡、钛、锆、铪、钒、铬、钼、钨、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镉、铟、锡、锑中的至少一种与选自包括烷基、烯基、烷氧基、酰氧基、β-二酮类配体、C≡O、卤素、硝基、硝酸根中的至少一种所形成的配合物或盐。/n