[发明专利]光致抗蚀剂组合物、包括光致抗蚀剂组合物的经涂布衬底和形成电子装置的方法在审
| 申请号： | 201611196014.0 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN106933030A | 公开（公告）日： | 2017-07-07 |
| 发明（设计）人： | E·阿卡德;W·威廉姆斯三世;J·F·卡梅伦 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 陈哲锋,胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光致抗蚀剂组合物，其包括酸敏性聚合物和具有式(I)的光酸产生剂化合物其中，EWG、Y、R和M+与说明书中所描述相同。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 包括 经涂布 衬底 形成 电子 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀剂组合物，其包含：酸敏性聚合物，溶剂，和具有式(I)的光酸产生剂化合物：其中：EWG为吸电子基团；Y为单键或键联基团；R为氢、直链或分支链C1‑20烷基、直链或分支链C2‑20烯基、单环或多环C3‑20环烷基、单环或多环C3‑20环烯基、单环或多环C3‑20杂环烷基、单环或多环C3‑20杂环烯基、单环或多环C6‑20芳基、单环或多环C1‑20杂芳基，除了氢以外的其中的每一个经取代或未经取代，其中当R包含可聚合基团时，所述光酸产生剂为酸敏性聚合物的聚合单元；且M+为有机阳离子。
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