[发明专利]光致抗蚀剂组合物、包括光致抗蚀剂组合物的经涂布衬底和形成电子装置的方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：

酸敏性聚合物，

溶剂，和

具有式(I)的光酸产生剂化合物：

其中：

EWG为吸电子基团；

Y为单键或键联基团；

R为氢、直链或分支链C_1-20烷基、直链或分支链C_2-20烯基、单环或多环C_3-20环烷基、单环或多环C_3-20环烯基、单环或多环C_3-20杂环烷基、单环或多环C_3-20杂环烯基、单环或多环C_6-20芳基、单环或多环C₁-20杂芳基，除了氢以外的其中的每一个经取代或未经取代，其中当R包含可聚合基团时，所述光酸产生剂为酸敏性聚合物的聚合单元；且

M⁺为有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述光酸产生剂化合物具有式(II)或(III)：

其中：

X¹、X²、X³和X⁴各自独立地为吸电子基团；

X⁵和X⁶各自独立地为选自C(CN)₂、C(NO₂)₂、C(COR²⁷)₂、C(CO₂R²⁸)₂、C(SO₂R²⁹)₂和C(R_f)₂的吸电子基团，其中R_f为C₁-C₃₀氟烷基；

Z¹和Z²各自独立地为氢、直链或分支链C_1-50烷基、单环或多环C_3-50环烷基、单环或多环C_3-50杂环烷基、单环或多环C_6-50芳基、单环或多环C_5-20杂芳基或其组合，其中基团Z¹和Z²任选地彼此连接形成环；

Y、R和M⁺与权利要求1中相同；且

每个表示部分双键。

3.根据权利要求2所述的光致抗蚀剂组合物，其中在式(III)中：

EWG为CN；

R为多环C_3-20环烷基；

Y为单键、-C(R³⁰)₂-、-N(R³¹)-、-O-、-S-、-S(＝O)₂-、-(C＝O)-或其组合，其中每个R³⁰和R³¹独立地为氢或C_1-6烷基；且

M⁺为有机锍阳离子或有机碘阳离子。

4.根据权利要求2和3中任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中在式(III)中：

X⁵和X⁶各自为C(CN)₂；

R为氢；且

Y为单键。