[发明专利]一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法有效

专利信息
申请号: 201611189184.6 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106784402B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 李福山;刘洋;徐中炜;郑聪秀;叶芸;唐谦;郭太良 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350002 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法包括以下步骤:步骤S1:在基板上沉积TFT驱动电路与阳极层;步骤S2:配制具有疏水性材料的墨水;步骤S3:在TFT基板上沉积一层图案化的疏水的bank层;步骤S4:在bank层内依次打印电子注入层、电子传输层和发光层;步骤S5:依次沉积空穴传输层、空穴注入层和阴极,得到印刷发光显示器件;步骤S6:封装整个发光显示器件。通过本发明方法可以大面积、溶液法、低功耗和高材料利用率的制备发光显示器的像素bank,拓宽了bank材料的选择空间,大大简化了像素bank的制备流程,有利于工业化量产发光显示器。
搜索关键词: 一种 光刻 像素 bank 制备 及其 印刷 显示 应用 方法
【主权项】:
1.一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤S1:在基板上沉积TFT驱动电路与阳极层;步骤S2:配制具有疏水性材料的墨水;步骤S3:在TFT基板上沉积一层图案化的疏水的bank层;步骤S4:在bank内依次打印空穴注入层、空穴传输层和发光层;步骤S5:依次沉积电子传输层、电子注入层和阴极,得到印刷发光显示器件;步骤S6:封装整个发光显示器件;所述步骤S3中,在TFT基板上沉积的一层图案化的疏水的bank层通过包括喷墨打印、气流喷印、转印、卷对卷图案化非光刻的印刷方式进行制备;所述疏水的bank层的材料为正负光胶以及具有绝缘性的疏水和超疏水材料的混合材料,所述疏水和超疏水材料包括自组装微纳表面疏水材料,所述疏水的bank层材料墨水粘度为1cp~1000cp;所述疏水的bank层的垂直剖面形状包括倒梯形、正梯形与弧形。
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