[发明专利]一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法

说明书

本发明涉及一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法包括以下步骤：步骤S1：在基板上沉积TFT驱动电路与阳极层；步骤S2：配制具有疏水性材料的墨水；步骤S3：在TFT基板上沉积一层图案化的疏水的bank层；步骤S4：在bank层内依次打印电子注入层、电子传输层和发光层；步骤S5：依次沉积空穴传输层、空穴注入层和阴极，得到印刷发光显示器件；步骤S6：封装整个发光显示器件。通过本发明方法可以大面积、溶液法、低功耗和高材料利用率的制备发光显示器的像素bank，拓宽了bank材料的选择空间，大大简化了像素bank的制备流程，有利于工业化量产发光显示器。

技术领域

本发明涉及光电材料器件技术领域，特别是涉及一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法。

背景技术

OLED被业界公认为下一代显示技术，但受限于比较蒸发镀膜高的成本，离市场普及还有相当距离。鉴于此，基于溶液法的光电显示技术日益受到行业的重视和青睐。三星、LG等国际品牌以及我国京东方、华星光电等本土厂商也已经在印刷OLED以及QLED布局。然而目前，TFT基板的bank依然采用如光刻、离子束刻蚀技术方法，都存在成本高、步骤复杂、bank材料选择空间小、以及表面需要复杂的疏水处理等缺点。

喷墨打印、气流喷印、转印、微米压印、卷对卷等图案化非光刻成膜技术据报道已经可以将线宽降到10um甚至微米以下，可以满足对显示TFT基板的bank的精度要求。利用图案化技术制备TFT基板的bank的特点有成本低、步骤简单、不需要使用大量化学药剂、对环境和设备要求不高、适合大规模可柔性显示面板的生产等。

传统的光刻方式步骤复杂、成本较大、模板(mask)制作成本较高、缺乏灵活性，且在制备的过程中需要使用大量化学药剂，造成环境污染。熟知的导电图形薄膜的光刻法制备过程如图1所示，其过程必须经过沉积成膜、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、清洗和烘干等许多步骤。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提供一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法，通过该方法可以大面积低成本的制备TFT基板的bank，省去了传统光刻方式必须经过涂布光刻胶、曝光、显影、固化、刻蚀、清洗、烘干以及增加疏水性等流程，拓宽了bank材料的选择空间，大大简化了像素bank的制备流程，有利于工业化量产发光显示器。

本发明采用以下方案实现：一种非光刻像素bank的制备及其印刷显示应用方法，包括以下步骤：

步骤S1：在基板上沉积TFT驱动电路与阳极层；

步骤S2：配制具有疏水性材料的墨水；

步骤S3：在TFT基板上沉积一层图案化的疏水的bank层；

步骤S4：在bank层内依次打印电子注入层、电子传输层和发光层；

步骤S5：依次沉积空穴传输层、空穴注入层和阴极，得到印刷发光显示器件；

步骤S6：封装整个发光显示器件。

进一步地，所述基板选用的材料包括玻璃、柔性材料与可伸缩材料。

进一步地，所述阳极极层包括ITO、银纳米线、纳米银、石墨烯与透明导电材料。

进一步地，所述步骤S3中，在TFT基板上沉积的一层图案化的疏水的bank层通过包括喷墨打印、气流喷印、转印、微纳米压印、卷对卷图案化非光刻的印刷方式进行制备。

进一步地，所述疏水的bank层的材料为正负光胶以及具有绝缘性的疏水和超疏水材料，所述疏水和超疏水材料包括氟离子或氯离子的低表面能材料、聚甲基丙烯酸甲酯和聚苯乙烯为原料制备超疏水薄膜以及自组装微纳表面疏水材料，所述疏水的bank层材料墨水粘度为1cp~1000cp。

特别地，所述基板的亲疏水特征通过非增加功能薄膜层的等离子刻蚀或等离子臭氧等方式获得。