[发明专利]用于光刻图案化的方法在审
| 申请号： | 201611178550.8 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN107153326A | 公开（公告）日： | 2017-09-12 |
| 发明（设计）人： | 张书豪;高国璋;黄建元;陈政宏 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明的实施例公开了用于光刻图案化的方法。该方法包括提供衬底，在衬底上方形成沉积增强层(DEL)并且使有机气体在DEL的表面附近流动。在有机气体的流动期间，该方法还包括用图案化的辐射辐照DEL和有机气体。有机气体的元素通过图案化的辐射而聚合，从而在DEL上方形成光刻胶图案。该方法还包括用光刻胶图案作为蚀刻掩模蚀刻DEL，从而形成图案化的DEL。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻图案化的方法，包括：提供衬底；在所述衬底上方形成沉积增强层(DEL)；使有机气体在所述沉积增强层的表面附近流动；在所述有机气体的流动期间，用图案化的辐射辐照所述沉积增强层和所述有机气体，其中，所述有机气体的元素通过所述图案化的辐射而聚合，从而在所述沉积增强层上方形成光刻胶图案；以及用所述光刻胶图案作为蚀刻掩模蚀刻所述沉积增强层，从而形成图案化的沉积增强层。
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