[发明专利]一种改进的单片式触控屏的制作方法

摘要

本发明公开了一种改进的单片式触控屏的制作方法，首先运用黑色薄膜技术与常规的光刻工艺相结合的技术，采用溅射沉积方法制备多层氧化镍薄膜，然后使用PET成型模具技术进行CNC精雕成型，接着使用钠钙玻璃超高强度钢化技术进行玻璃的钢化及加工，最后控制绝缘材料厚度均匀性实现光刻工艺的套刻精度和对位精度的保证。本发明提高了生产效率和产品良率，减少了产品在制作过程中的损坏，降低了产品的成本。

主权项

一种改进的单片式触控屏的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）、薄膜遮光区的制作：采用溅射沉积方法制备多层氧化镍薄膜，运用黑色薄膜技术与常规的光刻工艺相结合，同时控制基板洁净度，实现梯形蚀刻边缘的技术，实现符合产品要求的黑色遮光区，透过率<0.1%，电阻率>1011Ω•m，厚度<0.5µm；（2）、CNC精雕成型：使用PET成型模具技术，以及与PET相配合的功能区保护材料和保护工艺，结合CNC精雕工艺实现不发生功能区被划伤和玻璃边崩角的成型加工技术，达到成型精度要求，尺寸偏差<50µm；（3）、玻璃的钢化及加工：使用钠钙玻璃超高强度钢化技术，并结合机械、化学抛光方法开发加工痕迹弱酸微蚀刻，实现玻璃的表面硬度7H，抗冲击强度在32mm直径不锈钢球和70cm自由落体到表面的条件下5次无破损，抗静压20磅，曲度10°，消除CNC加工痕迹；（4）、光刻工艺的套刻精度和对位精度的保证控制绝缘材料厚度均匀性，实现50微米光学胶的制作，在功能片上X轴和Y轴的间隙精度偏差小于2µm，功能片上X轴和Y轴交叉的绝缘材料的厚度偏差小于10%，整个功能片上所有的X轴和Y轴表面的介质层的厚度偏差小于10%。